應用于:
半導體晶元光刻和高精度PCB板曝光等。以LED單波段或混合波段作為光源,采用了陣列光學鏡片整形后,輸出均勻的平行光組成面光源(矩形或者特定形狀光斑),實現(xiàn)波長365nm的紫外光(313nm或者405nm、435nm混合光),光束垂直照射于半導體光刻機掩膜板進行芯片光曝光,光能利用率高,光強分布均勻。
規(guī)格及參數(shù):
序號 |
項目 |
性能要求 |
1 |
型號 |
UVLED-365-6-400-WC/AC |
2 |
光源 |
LED |
3 |
工作波長 |
主波長365nm(可定制405nm、435nm或混合波段) |
4 |
照明尺寸 |
>160x160mm(可定制4寸--12寸曝光面積) |
5 |
照明不均勻性 |
<2% |
6 |
照明強度 |
>30mw/cm2 @365nm(風冷)/>100mw/cm2 @365nm(水冷) |
7 |
準直角 |
<2°(可定制) |
8 |
傾斜角 |
<0.3° |
9 |
工作距 |
200-400mm(可根據(jù)客戶需求進行定制) |
10 |
外形尺寸 |
長寬高≤550*350*600mm |
11 |
能量調(diào)節(jié) |
調(diào)節(jié)控制LED功率(本地或遠程) |
12 |
能量檢測 |
光路能量實時監(jiān)測 |
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